陶瓷的缺陷和扩散第十一期包括主要材料组的论文

研究及市场(http://www.researchandmarkets.com/research/9778fd/defects_and_diffus)已宣布增加“缺陷和扩散在陶瓷XI”报告，以他们的提供。

系列:缺陷与扩散论坛，295 - 296卷

年度回顾十一

该系列的第11卷涵盖了该领域的最新成果，包括自《年度回顾X》(卷280-281)出版以来出现的论文摘要。除了589篇陶瓷摘要外，该期刊还包括所有主要材料组的原始论文和理论:离子注入ZnO中的正电子湮没(a.d.a acharya, G.Singh and s.b.s shrivastava)，溅射法制备氧化钨薄膜的光学特性(s.a.a aly)，纳米磁流体磁化机理研究(j.j li and d.l li)，低温退火过程中硅中砷原子的聚集(O.Velichko和o.v urunova)，电流密度对电沉积硅扩散层成分和微观结构的影响(杨红，张玉玉，李玉英，汤国和贾可)，AISI403钢中氢的应力诱导迁移和俘获(G.P.Tiwari, V.D.Alur和E.Ramadasan)，束缚态质子上的电迁移力(a.r odder)。

目录:

• 离子注入ZnO中的正电子湮没
• Aman Deep Acharya, Girjesh Singh, S.B. Shrivastava
• 溅射法制备氧化钨薄膜的光学特性
• S.A.阿里赛
• 纳米磁流体磁化机理研究
• 李建玲，李德才p19
• 低温退火过程中砷原子在硅中的团簇
• Oleg Velichko, Olga Burunova第27页
• 电流密度对电沉积Si扩散层成分和组织的影响
• Yang Hai Li, Yu Zhu Zhang, Yun Gang Li, Guo Zhang Tang, kujia p33
• 6063和6066铝锭的正电子湮没和显微硬度测量
• M.A. Abdel-Rahman, Alaa Al-deen, Emad A. Badawi第39页
• AISI403钢中氢的应力诱导迁移和俘获
• G.P. Tiwari, V.D. Alur, E. Ramadasan p49
• 束缚态质子的电迁移力
• lod p69

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