2016年10月27日
Picosun Oy,先进工业的主要供应商ALD原子层沉积技术,现在提供其客户生产规模批处理的氮化铝与膜厚均匀性优越,速度快。
氮化铝(AlN)在半导体行业的关键材料之一。欧洲杯足球竞彩兼容第三列车V必经半导体电力电子,使其成为一个优秀的材料以及它的使用在移动通信技术在射频等几个关键组件的生产过滤器和麦克风。
我们取得了优秀的成果在我们新的AlN批处理过程中,所以我们现在很开心为大规模生产提供到我们的行业客户应用程序。AlN材料后一个非常寻求在微电子生产客户。
应用程序和服务主任埃里克博士Østreng Picosun。
高品质,但低成本大规模生产微电子是一个先决条件的迅速扩张的事情网络优先车道(物联网)。很快,物联网将需要数以万亿计的传感器、执行器、传感器、能源矿车等,通常独立操作电子元件。AlN薄膜还在这些设备是重要的构建块。
在所有半导体应用,薄膜的质量,特别是他们的均匀性和纯度,是至关重要的。最终产品的价格保持竞争力,电影必须快速和高效率在大批量生产。
我们在Picosun想为客户提供全面、把关键ALD制造业解决方案和最好的和最灵活的客户服务。流程,定制、优化,增加了为每个客户的个人需求是这个解决方案的核心部分。
董事总经理先生Juhana Kostamo Picosun。
Picosun肾上腺白质退化症患者系统的生产是为了满足最严格的质量和可靠性要求今天的半导体行业。Picosun的半S2兼容批ALD工具配备全自动衬底处理在不断真空优秀AlN膜厚度千篇一律和保形性取得了批处理(*)。