在旗舰产品DualBeam上添加等离子FIB可以显著提高铣削速度，实现传统FIB技术无法实现的更大特性的分析
旗舰FEI Helios G4双束系列目前，等离子体聚焦离子束(PFIB)技术可用于先进材料的研究。欧洲杯足球竞彩PFIB的快速铣削能力使得对常规镓(Ga)来说太大的相关特性进行分析成为可能+心房纤颤。对金属、电池和增材制造等领域的材料科学家来说，对更大范围感兴趣的区域进行分析是很重要的。欧洲杯足球竞彩
我们在20多年前开创了双光束技术。今天，我们很高兴继续保持我们在DualBeam技术的领导地位，推出了新的Helios G4 PFIB，提供高吞吐量的FIB处理;高分辨率、大面积二维和三维成像;高质量的TEM样品制备。PFIB，控制电子，舞台灵活性和控制，以及材料科学应用专业知识的独特组合，为我们的客户提供性能和支持，以推进他们的研究。欧洲杯足球竞彩欧洲杯线上买球
特丽莎·赖斯，赛默飞世尔公司材料科学副总裁兼总经理。欧洲杯足球竞彩欧洲杯线上买球
多尺度成像和分析帮助研究人员将纳米尺度的信息与材料的宏观尺度效应联系起来。欧洲杯足球竞彩传统的Ga+ FIB系统已被用于制备透射电子显微镜(TEM)样品，并进行横断面和3D分析，但其可以分析的特征尺寸受其铣削速度的限制。基于等离子体的DualBeam系统可以比Ga更快地去除材料+FIB，增加分析吞吐量，并支持对相关的大量特性进行分析，这些特性对于Ga来说太大了+FIB在实际时间范围内。新的Helios G4 PFIB也被设计来避免与Ga植入相关的问题+离子在某些应用中。
新Helios G4 PFIB的关键技术包括:
- 新的PFIB 2.0离子柱提供高束流和在全电流范围内优良的束流剖面，提供质量和吞吐量的结合，
- 行业领先的Elstar电子柱与UC+单色高分辨率成像，
- 先进和广泛的气体化学，
- 易于使用的Auto Slice & View和AutoTEM 4.0软件，
- 快速和容易的指导TEM样品制备新手用户，和
- 系统运行参数的自对准和优化。
Helios G4 PFIB有两种型号:CXe提供灵活的110毫米DC级和UXe的高性能150毫米压电级。