通用等离子公司

通用等离子是在大面积真空镀膜系统和来源的创新领导者。我们的专利(和正在申请的专利)来源技术，精湛的机械工程和对细节的关注，使通用等离子产品在他们的同类中最好。
通用等离子设计和建造大面积真空镀膜系统。我们是太阳能电池制造系统设计和制造方面的专家，正在开发一系列涂层系统，可在沉积速率、均匀性和拥有成本方面实现数量级的改进。
通用等离子的专利等离子束源技术创造了一种密度极高的磁约束等离子体。等离子体束源技术推进等离子体CVD涂层的方式与磁控管阴极推进溅射的方式大致相同。
General Plasma的磁控管和离子源系列为大面积溅射应用提供了无与伦比的均匀性、可靠性和资源利用率。普通等离子体源包括点极线性离子源、旋转磁控管和移动磁铁平面磁控管。